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高精度單成分硫酸濃度計FUD-1 Model-130

簡要描述:高精度單成分硫酸濃度計FUD-1 Model-130
富士工業 高精度單成分硫酸濃度計 FUD-1 Model-130 CMP用/汎用薬液用
本產品利用超聲波的特性,高精度的測量溶液的濃度。
測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-12-05
  • 訪  問  量:1830

高精度單成分硫酸濃度計FUD-1 Model-130

富士工業高精度單成分硫酸濃度計 FUD-1 Model-130 CMP用/汎用薬液用

超聲波液體濃度計

FUD-1Model-130系列CMP用

測量原理

超聲波在液體中非常易于傳播

超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響

「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」

本產品利用超聲波的特性,高精度的測量溶液的濃度

測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

單組分密度計的特點

Model-130是一個概念模型,強調了所測量濃度的穩定性

在需要高精度和高穩定性密度計側的半導體制造過程中非常有效

可以高精度連續測量

免維護,無需定期調整/校準

易于安裝,因為在安裝過程中無需進行任何調整

通過實時輸出輕松反饋到過程

單成分濃度計的特點

Model-130是重視測量濃度穩定性的概念模型

半導體制造工序等的高精度·高穩定濃度計方面被認為是必要的

優點

高精度連續計測可能

無需定期調整、校對,無需維護

設置時的各種調整等不需要也容易設置

由于實時輸出反饋也容易

用途

在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等

稀釋工程的各種藥液濃度管理等(H2O2·TMAH·HNO3·H2SO4·HCI等)

在清洗過程中的清洗液濃度管理等(HF·NH4OH·KOH·PA等)

蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等(HF·H2S04等)

富士工業 高精度單成分硫酸濃度計 FUD-1 Model-130 CMP用/汎用薬液用

高精度單成分硫酸濃度計FUD-1 Model-130









 

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