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富士工業超聲波液體濃度計

簡要描述:富士工業超聲波液體濃度計 FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用
可根據檢量線的交換測量各種半導體藥液的濃度。
發信器小型、輕量,可直接在線裝置。
免保養設計。
接液部分全部采用(PFA)材料。
小型輸出設計,對藥液沒有影響。

  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2024-12-05
  • 訪  問  量:1688

富士工業超聲波液體濃度計  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用產品介紹:

超聲波液體濃度計單成分用

半導體制造用

FUD-1Model-13

測量原理

超聲波在液體中非常易于傳播

超聲波在溶液中傳播的速度受溶液的濃度和溫度影響

「濃度變化」→「密度變化」→「音速變化」

本產品利用超聲波的特性,高精度的測量溶液的濃度

測量「溶液的溫度」+「超聲波的速度」→通過CPU演算處理→濃度顯示

可根據檢量線的交換測量各種半導體藥液的濃度

發信器小型、輕量,可直接在線裝置

免保養設計

接液部分全部采用(PFA)材料

小型輸出設計,對藥液沒有影響

單成分濃度計的特點

實時濃度測量可能,濃度管理系統構筑簡單

模擬DC4~20mA及數字RS232C標準輸出

標配測量錯誤輸出和警報輸出

標配自我診斷功能·錯誤信息提示

小型·輕量小型發信器在線直接設置可能

采用PFA的接液構件、小輸出設計對藥液沒有影響

優點

高精度連續計測可能

無需定期調整、校對,無需維護

設置時的各種調整等不需要也容易設置

由于實時輸出反饋也容易

用途

在CMP工序中的CMP襯墊或氧化劑濃度管理等

稀釋工程的各種藥液濃度管理等(H2O2?TMAH?HNO3?H2SO4?HCl等)

在清洗過程中的清洗液濃度管理等(HF?NH4OH?KOH?IPA等)

蝕刻工序中的蝕刻液濃度管理等(HF?H2SO4等)

富士工業超聲波液體濃度計  FUD-1 Model-13 CMP用/汎用薬液用參數:image.png

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